WS-1000M Wet Station半導體濕法刻蝕設備，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。

一、半導體濕法刻蝕設備功能：
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水，溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干

二、半導體濕法刻蝕設備特點：
● 全PP材質構造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統
● 有排孔的濕站操作臺 (易清潔)
● 特殊設計的濕站壓力系統Wet plenum
● 帶流量計的排液管道
● 各類組件的隔離設計（散熱原件，泵浦和壓力容器等）

三、半導體濕法刻蝕設備材料選擇：
可以根據應用選擇更高級的材料；
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優良的平衡的物理性能，耐化學藥品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴格的FMRC 4910測試標準，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點和*燃燒。這種*的材料也達到或超過產生低煙和zui小毒副產品的檢測標準。