1、輸入電源:220VAC 50/60Hz 2、濺射電流:0-150 mA可調(diào) 3、功率:<2KW 4、輸出電壓:1600VDC(max) 5、濺射腔體 (1).采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H (2).密封:采用O形密封圈密封 6、濺射頭&樣品臺(tái) (1).二英寸帶水冷的磁控濺射頭(注意:水冷機(jī)不是標(biāo)配)另有1英寸靶頭可選 (2).一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺(tái),樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0-5 RPM (3).安裝有一可手動(dòng)操作的濺射擋板 (4).樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:30-80mm (5).靶頭支架,可以在非濺射狀態(tài)放置濺射靶頭 (6).濺射面積:4英寸(max) 7、控制面板 6" PLC集成觸摸屏控制面板,可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 8、真空系統(tǒng) (1)安裝有KF25真空接口 (2)數(shù)字真空壓力表(Pa) (3)此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含) (4)采用機(jī)械泵 <1.0E-2 Torr (5)采用渦旋分子泵 <1.0E-5 Torr (6)可在本公司選購各種真空泵 9、進(jìn)氣 含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥,本設(shè)備接氣需要安裝減壓閥 10、靶材 (1)靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度) (2)適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬(可在我公司選購)
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