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TF200-XNIR白光干涉測厚儀
產品特點
快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高
應用案例
TF200白光干涉測厚儀應用領域
半導體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等） LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等) LED (SiO2、光刻膠ITO等）
觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等) 汽車(防霧層、Hard Coating DLC等） 醫學（聚對二甲苯涂層球囊/*壁厚藥膜等）
型號 | TF200-VIS |
| TF200-DUV | TF200-XNIR |
波長范圍 | 380-1050nm | 190-1100nm | 900-1700nm | |
厚度范圍 | 50nm-40um | 1nm-30um | 10um-3mm | |
準確度1 | 2nm | 1nm | 10nm | |
精度 | 0.2nm |
| 0.2nm | 3nm |
入射角 | 90° |
| 90° | 90° |
樣品材料 | 透明或半透明 |
| 透明或半透明 | 透明或半透明 |
測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 | |
光斑尺寸2 | 2mm | 2mm | 2mm | |
是否能在線 | 是 |
| 是 | 是 |
掃描選擇 | XY可選 | XY可選 | XY可選 |
注：1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。
2.可選微光斑附件。
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