LFT系列高溫真空回轉爐 參考價：面議
LFT系列高溫真空回轉爐主要特點：三溫區開啟式真空回轉管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻...
真空干燥箱 參考價：面議
真空干燥箱產品特點：1.帶定時功能的數顯微電腦溫度控制器，控溫精確可靠。2.長方體工作室，使有效容積達到大。3.鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體，一目了然。...
小型真空管式爐 參考價：面議
小型真空管式爐設備特點：LFT系列小型管式爐是用于各種材料熱處理的實驗設備。主要行業有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密...
LFT系列雙溫區真空滑軌管式爐 （含預熱爐） 參考價：面議
LFT系列雙溫區真空滑軌管式爐 （含預熱爐）設備描述雙溫區滑軌式CVD系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、 2部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制...
雙溫區滑軌式CVD系統 參考價：面議
設備描述CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快...
小型立式管式爐 參考價：面議
小型立式管式爐設備特點：立式管式高溫爐如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。該設備采用立式結構設計，石英管...
1400系列真空管式回轉爐 參考價：面議
1400系列真空管式回轉爐設備特點： LFT1400C 600D60IIIRS三溫區開啟式真空回轉管式爐溫度可達1400℃，該設備采用雙層風冷結構，爐體表面溫度...
LFT系列高溫真空管式爐 參考價：面議
LFT系列高溫真空管式爐設備特點：LFT1750C 300D50高溫真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成...
LFT系列高溫真空管式爐 參考價：面議
LFT系列高溫真空管式爐設備特點： LFT1700C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附...
高真空系統 參考價：面議
HVU-10是一套高真空系統，其極限真空度為10-4Pa， 內部安裝 分子泵和機械泵配套使用，其接口為KF25、40，并配有真空連接管路一套，復合真空計和連接管...
低真空系統 參考價：面議
主要介紹：LVU-10是一套低真空系統，其極限真空度為10-1Pa， 內部安裝有雙級旋片機械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電...
3通道質量流量控制系統 參考價：面議
3通道質量流量控制系統設備描述：MFC-3Z是一款3路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜最大可以承重1000Lbs，所以...
4通道質量流量控制系統 參考價：面議
4通道質量流量控制系統設備描述：MFC-4Z是一款4路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜最大可以承重1000Lbs，所以...
鈦酸鍶 參考價：面議
簡介：鈦酸鍶（SrTiO3）是當今應用廣泛的高溫超導單晶基片之一。它與YBaCuO等高溫超導材料的晶格匹配好，無孿晶結構，有著良好的物理及機械性能，同時還廣泛應...
1200系列三溫區真空管式爐 參考價：面議
1200系列三溫區真空管式爐設備特點： LFT1200C 600D130III三溫區開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁...
LFM系列 1700系列真空氣氛箱式爐 參考價：面議
LFM系列 1700系列真空氣氛箱式爐應用：采用雙層殼體機構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊...
1200系列 7.2L 箱式爐 參考價：面議
1200系列 7.2L 箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料， 溫度能達到1200℃ 。該款...
LFM 1400系列48L箱式爐 參考價：面議
LFM 1400系列48L箱式爐 ，高溫箱式爐是以硅碳棒為加熱元件、采用S型熱電偶和30段可編程溫度控制器。側開門結構，方便客戶放取樣品；爐膛采用高質量氧化鋁微...
LFM 1200系列 1L箱式爐 參考價：面議
LFM 1200系列 1L箱式爐 微型箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，溫度能達到1200...
井式爐 參考價：面議
井式爐主要特點：此設備是集控制系統與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件， 發熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結構，配有風冷...
LFM系列 1200系列真空氣氛箱式爐 參考價：面議
LFM系列 1200系列真空氣氛箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程...
單溫區單晶提拉生長爐 參考價：面議
單溫區單晶提拉生長爐產品介紹： 提拉爐采用硅鉬棒進行加熱，專門設計針對于材料在真空或氣氛保護環境下對材料進行燒結，采用雙層殼體結構，使得殼體表面溫度小于65℃，...
加熱元件熱電偶 參考價：面議
加熱元件熱電偶：溫度檢測-K型熱電偶 CPI的理念是以客戶為根本（customer），以人才為基礎（personnel），以創新求發展（innovation）。...
小型石墨烯CVD系統 參考價：面議
小型石墨烯CVD系統，本公司研發的CVD（化學氣相沉積）系統由我司熱處理系統，多通道質量流量控制系統，及真空系統組成，適用于CVD生長工藝，如薄膜材料制備，Zn...
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