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簡介：上海伯東代理的連續式多腔磁控濺鍍設備可準確控制其濺鍍制程條件,為客戶提供更優質的薄膜,廣泛應用于納米研究技術,材料研究,氧化物,氮化物和金屬材料的研究,太陽能電池和觸碰螢幕等行業.

簡介：上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設備Multilayersputter擁有基板公自轉機構,搭配美國KRI離子源可實現多層膜結構并可以一次批量生產,廣泛應用于半導體,納米科技,太陽能電池,科研等行業,氧化...

簡介：超高真空環境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12托,超高真空環境對于科學研究非常重要,因實驗通常要求在整個過程中,表面應保持無污染狀態并可使用較低能量的電子和離子的實驗技術使用,而不會受到氣...

簡介：上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件,加裝美國KRi離子源為客戶提供更好質量的復合式薄膜.單片和多片式的loadingchamber,可節省其制程腔體的抽氣時間,進而節省...

簡介：上海伯東代理剝離成形電子束設備可以準確的控制蒸發速度,因此薄膜厚度和均勻度皆小于±3％,客制化的基板尺寸,zui大直徑可達12寸晶圓,腔體的極限真空度約為10-8Torr.

簡介：KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時間工藝儲存功能。配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及自動電動樣品擋板功能...

簡介：小型離子濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）實驗室用鄭科探KT-Z1650PVD小型磁控濺射儀的薄膜。在...

簡介：TQC自動涂膜機針對涂料在測試圖表、板或薄片上的涂膜，提供一種重復性和再現性都非常好的可靠基本的涂膜方式，消除了人為因素引起的各種不穩定性。速度、壓力和方向等的改變，都會導致涂膜結果的不規律性，另...

簡介：208HR高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）208HR高分辨離子濺射儀為場發射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場發射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷...

簡介：208C高真空鍍碳儀Cressington208C高真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針分析提供高質量的鍍膜技術。系統結構緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，...