Ossila紫外臭氧清洗機-L2006是一種光敏氧化處理過程。在處理過程中，有機分子在吸收短波長紫外輻射后，與臭氧分子發生化學反應，使有機分子從樣品表面分離下來。紫外臭氧清洗是一種的清潔技術，可清潔光敏表面、樹脂表面，以及洗滌溶劑、助焊劑、油類中的殘留物，可以對你的樣品進行表面殺菌處理而不影響表面屬性。

什么是紫外臭氧清洗?

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化處理過程。在處理過程中，有機分子在吸收短波長紫外輻射后，與臭氧分子發生化學反應，使有機分子從樣品表面分離下來。紫外臭氧清洗是一種的清潔技術，可清潔光敏表面、樹脂表面，以及洗滌溶劑、助焊劑、油類中的殘留物，可以對你的樣品進行表面殺菌處理而不影響表面屬性。紫外臭氧清洗與其它清洗技術(如氧等離子清洗)不同，不會導致樣品表面損傷。

紫外臭氧清洗機利用高強度紫外光源，在185nm和 254nm兩個波長照射目標表面進行處理。樣品倉內的分子氧(O2)在200nm以下波長的紫外線照射下進行分解，產生兩個氧自由基(O•)。每個氧自由基隨后與更多的氧分子發生反應，生成臭氧(O3)分子(圖1)。沒有被殘余氧吸收的大于200nm波長的紫外線被基片表面上的有機化學鍵大量吸收，導致激發狀態或有機自由基的產生。這些活性有機物種與不穩定的臭氧分子接觸時會產生易揮發性物種，如CO2，H2O，N2及短鏈有機化合物。這種揮發性物質極易從樣品表面揮發釋放，達到表面清潔的效果。

Ossila紫外臭氧清洗機-L2006可以去除樣品表面污染，數分鐘內產生超凈表面。它利用高能紫外光源產生臭氧，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發性化合物。揮發性化合物從樣品表面蒸發，*跡。這種清潔方法可以產生接近原子級的清潔表面，而不會對樣品表面產生損壞。

英國Ossila紫外臭氧清洗機的托盤尺寸為100mmx100mm，可將樣品定位于紫外光源下。您只需將樣品放到托盤上，關上倉門，設置好時間，按開始鍵即可。

Ossila紫外臭氧清洗機-L2006性價比高，廠家提供2年免費質保。

主要應用

目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。

表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。

表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學結構切斷，光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

紫外臭氧清洗機的應用領域包括:

· 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

· 微電子產品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。

紫外臭氧清洗機適用的樣品類型包括:

· 石英

· 硅

· 二氧化硅

· 氮化硅

· 金

· 鎳

· 鋁

· 砷化鎵

· 氧化鋁

· 玻璃

· 不銹鋼

功能特征

· 成本低；

· 120x120mm樣品臺；

· 處理樣品高14mm；

· 抽屜式樣品臺，簡單方便；

· 樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉，防止對人身傷害；

· UVO顯示器

· LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；

· 60分鐘定時器；

· 高強度UV燈源；

· 可控溫的樣品臺；

· 樣品清洗無需溶劑；

· 超凈表面

左: 紫外線臭氧清洗前    右: 紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。

技術參數