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ZLS(初代) Nicomp 380亞微米粒度分析儀

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Nicomp 380亞微米粒度分析儀利用動態光散射(DLS)原理,得到了粒徑在0.5~6微米之間的膠體體系的顆粒尺寸分布。DLS的工作原理是用聚焦激光束照射懸浮中的一組粒子,從而產生許多散射光波。

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ZLS(初代)? Nicomp 380亞微米粒度分析儀

動態光散射

Nicomp with AT-4.jpg

Nicomp 380亞微米粒度分析儀利用動態光散射(DLS)原理,得到了粒徑在0.5~6微米之間的膠體體系的顆粒尺寸分布。DLS的工作原理是用聚焦激光束照射懸浮中的一組粒子,從而產生許多散射光波。這些波互相干擾,產生凈散射強度,在某個遙遠的探測器上隨時間的變化而波動。粒子的擴散,或布朗運動,會導致單個波的相位隨機變化,導致光強度的波動。用自相關器分析這些漲落的時間行為可以得到顆粒的粒度分布。單個均勻尺寸分布的自相關函數是一個衰減的指數函數,其中粒子擴散率很容易從衰變時間中得到。后,利用Stokes-愛因斯坦關系可以很容易地計算出粒子半徑.

一般來說,大多數樣品不是均勻的,相反,它們通常是多分散的,有一定的粒徑范圍。然后,自相關函數由衰減的指數函數組合而成,每個函數具有不同的衰減時間,對自相關函數的分析不再十分簡單。采用變反褶積算法的儀器必須對原始數據進行反演,才能得到真實粒徑分布的估計值。Nicomp利用一組*的反褶積算法,從簡單的高斯近似到一種稱為“Nicomp分布”的專有高分辨率多模態反褶積分析,在描述這些困難的顆粒尺寸分布方面做得很好。

在高斯分析模式下發現的一些*的特征是基線調整參數,它提供了總補償,超越了其他大多數使用灰塵或污垢因素的儀器上的靈敏度。高斯分析模式還允許用戶一個固體或囊泡加權模式來分析像脂質體這樣的薄壁膠體系統。Nicomp分析模式是一種專有的高分辨率反褶積算法,它是25年前*引入的。它在歷*證明了它能夠準確地分析即使是困難的緊密間隔的雙峰(例如,2:1的間隔),甚至是某些三模態分布。這對于查找聚集分布的本機峰值非常有用。

標準的Nicomp 380配有12 mW激光二極管和PMT探測器,光纖設定為90°。樣品是通過插入單元引入的,380是僅有采用模塊化方法設計的動態光散射儀。可以通過增加一個或多個模塊來增強其能力:

自稀釋

該模塊不需要人工稀釋濃縮樣品。自動稀釋使粒度分析快速、簡便,不需要任何訓練。結果重復性好。

380/HPLD大功率激光二極管

PSS提供了一個高功率激光二極管陣列,以滿足我們需要的應用。需要更高功率的激光來擴展我們儀器的下限,提供足夠的來自小粒子的散射。它們在測量大顆粒時也很有用,如右旋反式,由于折射率的原因,這些粒子產生的散射強度不足。其結果是一種更通用的儀器,適用于微乳液、表面活性劑膠束、蛋白質和其他大分子的施膠。它甚至可以估計重組后生物聚合物的聚集程度,而不需要色譜分離。

雪崩光電二極管(APD)探測器

Nicomp 380可以配備各種高功率激光器以及高增益雪崩光電二極管探測器(APD),它提供的增益大約是傳統光電倍增管的7倍。APD是用來增加信號對噪聲和靈敏度的系統,但不能很好地散射光。蛋白質、膠束、其他以大分子為基礎的系統和納米粒子往往被稀釋(1毫克/毫升或更少),并且是由不能很好地散射光的原子組成的。雪崩光電二極管與名義上更高功率的激光二極管模塊相結合,為在短時間內精確分析納米粒子提供了一種低成本的解決方案。

380/MA多角度測速儀

大于100 nm的粒子不會向所有方向均勻散射光。通過改變探測角度,可以使DLS測量對某些尺寸的粒子更加敏感。Nicomp 380可配備微型測角儀,使光纖以0.9°增量的速度在12°至175°之間移動。

Zeta電位

Nicomp 380/ZLS用于測定液體懸浮液中帶電粒子的電泳遷移率和Zeta電位。測量Zeta電位的主要原因是預測膠體的穩定性。顆粒間的相互作用對膠體的穩定性起著重要的作用。利用Zeta電位測量來預測穩定性是量化這些相互作用的一種嘗試。Zeta勢是測量粒子間排斥力的一種方法。由于大多數水膠體系統是通過靜電斥力來穩定的,粒子間的排斥力越大,它們就越不可能緊密地聚集在一起。這樣膠體就越穩定。Nicomp 380/ZLS將動態光散射(DLS)技術和電泳光散射(ELS)技術相結合,在一臺緊湊型儀器中測量了亞微米級的粒徑分布和Zeta電位。

Nicomp 380/ZLS采用電泳光散射(ELS)方法測量Zeta電位。為了進行測量,一個小樣本通常被放置在一個一次性塑料容器中。然后插入鈀電極。整個細胞被放置在Nicomp 380里。由于*的單元設計,因此不需要將單元與固定平面對齊。在單元格就位后,只需簡單地單擊鼠標即可開始測量。由于ELS需要使用外差光,因此在進入探測器之前,散射光必須與參考光束(從入射光束中分離)適當地混合。該軟件將通過自動調整入射光強度來開始測量,以優化散射光與參考光束之間的混合。一旦完成,當電場關閉時,測量參考功率譜。然后施加電場,測量另一個功率譜。與參考譜相比,這個功率譜中的峰值頻率的變化是多普勒頻移。多普勒頻移用于計算平均遷移率。利用Smoluchowski方程確定了Zeta勢。

自動滴定器

Autoitrator模塊使Nicomp 380/ZLS能夠在一系列不同的pH值或離子濃度下自動對同一樣品進行多次測量。這樣就可以確定等電點.

相位分析光散射(PALS)

使用相位分析(而不是標準幅度分析)可以更準確和精確地測量小多普勒頻移。這意味著Zeta電位測量可以在高離子強度或高介電環境(如醇和有機溶劑)中進行。

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