晶片腐蝕清洗機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備，雙槽式設計，外殼采用電器控制元件。

晶片腐蝕清洗機

概述：

本機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備，雙槽式設計，外殼采用電器控制元件。

主要特點：

帶有上下抖動功能，能有效充分的腐蝕晶片。

腐蝕槽可采用石英缸，也可采用進口PP槽。

自動補液，自動放液，減少人為操作。

水沖洗槽采用循環(huán)水，自動溢流，節(jié)約水源。

可采全自動方式，也可采用手動控制方式。

晶片腐蝕清洗機

超聲波清洗原理：

由超聲波發(fā)生器所發(fā)出的高頻超聲振蕩信號，通過換能器轉(zhuǎn)換成高頻機振蕩而傳播到介質(zhì)—清洗溶劑中，利用超聲波在清洗溶劑中的“空化作用”，使液體流動而產(chǎn)生數(shù)以萬計的小氣泡，這些氣泡在超聲波縱向傳播成的負壓區(qū)形成、生長，而在正壓區(qū)迅速破裂，就是在這種被稱為“空化”效應的過程中氣泡破裂產(chǎn)生超過1000個大氣壓的瞬間高壓，連續(xù)不斷產(chǎn)生的瞬間高壓產(chǎn)生一串小“爆炸”不斷地沖擊被清洗物體的表面，孔隙、縫道，使物體表面及縫隙中的污垢迅速剝落，從而達到被清洗物件凈化的目的。因此利用超聲波清洗質(zhì)量好、速度快。對一般常規(guī)清洗方法，可達到清潔度要求，尤其對幾何形狀比較復雜，帶有各種小孔，彎孔和盲孔等被清洗物件，采用超聲波清洗的潔凈效果更為明顯。