模塊化槽座及浸水槽；薄膜面積控制系統(tǒng)；薄膜壓力測定系統(tǒng): Wihelmy板測定方法，采用探針量測技術(shù)(直徑僅0.51mm)，因此直徑2mm之液體，即可量測其表面壓力.動態(tài)范圍 0到130 mN/m,分辨率 0.5 μN/m；薄膜置放系統(tǒng): 置放速度 標準范圍 1-10 mm/min能夠制作至少兩種不同分子種類的L-B薄膜，并能交替地制作多層膜

技術(shù)參數(shù)

模塊化槽座及浸水槽:
模塊化槽座設(shè)計，可配備多種規(guī)格浸水槽
尺寸:250×78 mm(浸取井位于浸水槽正*位置)
容量20 - 50 ml (不含浸取井)
薄膜面積控制系統(tǒng):
壓縮速度:1mm到200mm/min (單組)
不正確度:0.1%
試片尺寸(長x寬)：40 x 26 mm
薄膜壓力測定系統(tǒng):
Wihelmy板測定方法，采用探針量測技術(shù)(直徑僅0.51mm)，因此直徑2mm之液體，即可量測其表面壓力.
動態(tài)范圍: 0到130 mN/m
分辨率: 0.5 μN/m
薄膜置放系統(tǒng):
置放速度:標準范圍 1-10 mm/min，速度可以任意調(diào)升
基質(zhì)zui大尺寸:40×28 mm(*沉浸)
能夠制作至少兩種不同分子種類的L-B薄膜，并能交替地制作多層膜

主要特點
1.模塊化槽座設(shè)計，可配備多種規(guī)格浸水槽，更換簡便，符合多樣的應(yīng)用需求.
2.配備UV/VIS槽，槽底座具有透明窗口(玻璃,鐵弗龍或石英材質(zhì))，可以未來擴
充功能時，配合光學(xué)顯微鏡在制膜過程中，同時量測表面壓及觀察熒光影像
3.配備Multiwell Plate，采用探針量測技術(shù)，可各別量測微量液體
(300 microliters)之表面張力值，具高分辨率(〈 0.1 mN/m).
4.配備Ribbon槽，薄膜的壓力可控制到薄膜成為固相的壓力
(high surface pressure 〉 70 mN/m)
5.配備容器包覆壓克力箱，此箱子有合適電線與流體流經(jīng)的孔洞，以符合LB儀
器的電源、訊號量測線、恒溫系統(tǒng)的流體進出孔、惰性氣體的進出口等等。
6.配備溫度控制盤(循環(huán)水槽需另外選配)，能控制L-B槽內(nèi)溶液的溫度到50 oC
(± 1 oC)，同時有相關(guān)的溫度感應(yīng)、讀取、控溫設(shè)備.
7.尺寸:250×78 mm(浸取井位于浸水槽正*位置)，
容量20-50 ml (不含浸取井)
8.材質(zhì):為實心體，以高純度鐵弗龍或特殊玻璃材質(zhì)，僅水槽邊緣具備鐵弗龍， 減少與水接觸面積，可避免肽或蛋白質(zhì)等物質(zhì)的吸附作用，同時提高儀器的再現(xiàn)性、可靠性及精確度.

儀器介紹
薄膜面積控制系統(tǒng):
表層面積管制:以2組移動?xùn)艞U相對稱的壓縮單層膜，并以軟件操作控制，操作者可程序參數(shù)處理
表面柵桿:以親水性材質(zhì)制造(亦可選配疏水性材質(zhì))，并具防漏效果
推擠分子層的橫桿可以拆卸，以利清洗
壓縮速度: 1mm到200mm/min (單組)
不正確度: 0.1%
試片尺寸(長x寬)：40 x 26 mm
柵桿傳動裝置:以伺服機控制直流馬達來啟動傳動帶
薄膜壓力測定系統(tǒng):
Wihelmy板測定方法，采用探針量測技術(shù)(直徑僅0.51mm)，因此直徑2mm之液體，即可量測其表面壓力.
可減少外界震動產(chǎn)生的誤差，不需外加防震座，即可精確測定表面壓力，并以軟件操作控制，操作者可程序參數(shù)處理
配備有八支sensor，并附上校正sensor的操作方法與必須之工具
薄膜的壓力可控制到薄膜成為固相的壓力(high surface pressure)
動態(tài)范圍: 0到130 mN/m
分辨率: 0.5μN/m
薄膜置放系統(tǒng):
控制及操作: 手動微調(diào)控制操作
置放速度:標準范圍 1~10mm/min，速度可以任意調(diào)升
基質(zhì)zui大尺寸:40×28mm(*沉浸)
浸取器馬達:伺服機控制直流馬達
能夠制作至少兩種不同分子種類的L-B薄膜，并能交替地制作多層膜操作軟件可由壓力感應(yīng)器之回饋，驅(qū)動?xùn)艞U裝置，以確保置放過程中維持固定的表面壓力
薄膜表面位能測定系統(tǒng):
可了解單層分子薄膜壓膜過程的特性，如分子極性的變化及單層蛋白質(zhì)分子的吸附現(xiàn)象，可由表面能輕易的觀察.
采用電極感應(yīng)原理，液體容量3ml即可量測溫度、表面壓力及表面位能.
分辨率: 1mV