光催化系統就是光觸媒在外界光的作用下發生催化作用，光觸媒在光照條件下（可以是不同波長的光照）所起到的催化作用的化學反應。從1972年，Fujishima在半導體TiO2電極上發現了水的光催化分解作用，從而開辟了半導體光催化這一新的領域。1977年，Yokota發現光照條件下，二氧化鈦對丙烯環氧化具有光催化活性，拓寬了光催化應用范圍，為有機物氧化反應提供了一條新思路。此后光催化技術在能源制氫、二氧化

高溫高壓光催化反應系統

    HTPPRS高溫高壓光反應釜系統由光化學反應釜、加熱保溫部分、氣液取樣及控制等部分組成；該光化學反應釜采用頂照式，具有雙層腔式的高溫耐壓防霧光窗結構，可防止高溫氣體在視鏡上的冷凝結霧現象，較好的維持了光能的穩定輸入；加熱系統采用便攜、穩定可靠PID 溫控儀、加熱套、納米隔熱套等，通過對反應釜內溫度的直接監測來反饋控制，有利于提高試驗可靠性及重復性；氣液取樣，通過高壓介質梯級泄壓的方式，可直接從外端口手動取樣，操作簡便且有效；在控制部分，除溫度控制外，還接有壓力監測、安全閥、泄壓端口及進氣端口，使系統能夠安全可靠運行。該反應釜用于高溫高壓下的光化學反應測試，能夠對反應溫度進行控制，對反應壓力進行調節，可手動取出光化學反應的氣液樣品，便于及時測試分析，具體應用范圍較廣，特別適用于高校、科研院所的少量光化學反應的寬參數范圍的測試分析。

關鍵特征：

● 實現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應；

● 氣體流速可三路獨立控制，使用超厚石英光窗，可用于全光譜范圍內的光化學反應；

應用領域            ▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 其他高溫高壓（光）化學反應        

● 光降解氣體污染物（如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等）                                             

技術參數