NS3500 Solar 半導體晶圓質量檢測系統

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促銷時間：

特價說明：

促銷詳細：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統的塑膠模具開模后產品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續工序，有利于生產自動化，降低對人的依賴。

NS-3500 Solar 是一種可靠的半導體晶圓檢測系統。通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體晶片，FPD產品，MEMS設備，玻璃基板，材料表面等方面擁有各種解決方案。

NS3500 Solar 半導體晶圓質量檢測系統

NS-3500 Solar 是一種可靠的半導體晶圓檢測系統。通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，可以為半導體晶片，FPD產品，MEMS設備，玻璃基板，材料表面等提供各種解決方案。

Features & Benefits（性能及優勢）：

Application field（應用領域）：

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度，寬度，角度，面積和體積，例如

-半導體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工藝

- FPD產品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池，太陽能電池紋理，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析

Specifications(規格）:

Model	Microscope NS-3500 Solar					備注
物鏡倍率		10x	20x	50x	100x
觀察/ 測量范圍	水平 (H): μm	1400	700	280	140
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105
工作范圍: mm		16.5	3.1	0.54	0.3
數值孔徑(N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95
光學變焦		x1 to x6
總放大倍率		178x to 26700x
觀察/測量光學系統		Pinhole共聚焦光學系統
高度測量	測量掃描范圍	400 um				注 1
	顯示分辨率	0.001 μm
	重復率 σ	0.010 μm				注 2
幀記憶	像素	1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
	單色圖像	12 bit
	彩色圖像	8-bit for RGB each
	高度測量	16 bit
幀速率	表面掃描	20 Hz to 160 Hz
	線掃描	~8 kHz
激光共焦測量光源	波長	405nm
	輸出	~2mW
	激光等級	Class 3b
激光接收元件		PMT (光電倍增管)
光學觀察光源	燈	10W LED
光學觀察照相機	成像元件	1/2” 彩色圖像 CCD 傳感器
	記錄分辨率	640x480
	自動調整	增益, 快門速度, White balance
數據處理單元		PC
電源	電源電壓	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	電流消耗	500 VA max.
重量	顯微鏡	Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12 kg)
	控制器	~8 kg
隔振系統		氣浮光學平臺隔振系統				Option