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108鍍金鍍碳聯(lián)用儀

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108鍍金鍍碳聯(lián)用儀特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜,同時又用于掃描電鏡能譜分析。 分類: 電鏡制樣設(shè)備, 鍍膜儀 標簽: 離子濺射儀, 鍍碳儀, 鍍膜儀 Brand:Ted Pella

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描述

特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜,同時又用于掃描電鏡能譜分析。

一、主要特性

  • 通過1個真空泵相連,在既可以保證良好鍍金鍍碳效果的同時,又不會產(chǎn)生碳和金屬的任何交叉污染。
  • 通過高效低壓直流磁控頭進行冷態(tài)精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
  • 數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和的鍍膜效果。
  • 可使用多種金屬靶材:Pt, Au/Pd,Au,Pt/Pd(Au靶為標配),靶材更換快速方便。
  • 通過使用高分辨膜厚控制儀(選件)測量所鍍膜厚。
  • *的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚20nm左右進行多次蒸發(fā),無須切削或調(diào)整碳棒形狀。
  • 使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。
  • 使用新型的蒸發(fā)裝置:電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低,碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。
  • 自動模式下,蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時間進行噴鍍。手動模式下,*的設(shè)計允許以脈沖或連續(xù)的方式操作,并通過旋鈕控制輸出電壓。

 

二、技術(shù)參數(shù)

鍍金系統(tǒng)
樣品室大小直徑120mm x 120mm 高
靶材Au靶為標配, Au:Pd, Pt, Pt:Pd (選件);直徑57mm x 0.1mm厚
樣品臺可以裝載12個SEM樣品座,高度可調(diào)范圍為60mm

可選配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺,旋轉(zhuǎn)速度:0~120rpm可調(diào),傾斜角度:0~90°可調(diào)。旋轉(zhuǎn)樣品臺具有單獨腔體保護,可防污染。

濺射控制微處理器控制,安全互鎖,可調(diào),電流50mA,程序化數(shù)字控制
濺射頭低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環(huán)繞暗區(qū)護罩
模擬計量真空: Atm – 0.001mbar

電流:0—50mA

厚度監(jiān)控
(選件)
使用高分辨厚度監(jiān)控儀(選件)終止濺射過程
控制方法帶有“暫?!笨刂频臄?shù)字定時器(0-300s)
桌上系統(tǒng)真空泵可置于抗震臺上,全金屬集成耦合系統(tǒng)
鍍碳系統(tǒng)
樣品室大小直徑120 x 120mm 高
蒸發(fā)源Bradley型 (6.15mm rods, [1/4″])
高強度不銹鋼結(jié)構(gòu)
蒸發(fā)控制基于微處理器的反饋回路控制,能夠進行遠程電流/電壓感應,基于真空水平變量的安全互鎖功能,電流180A,提供過流保護
樣品臺可裝置12個樣品座,高度在30mm范圍內(nèi)可調(diào)
模擬計量真空: atmos – 0.001mb; 電流: 0-200A
控制方法自動蒸發(fā)控制,使用程序設(shè)定的電壓和時間

以脈沖或連續(xù)方式進行*手動控制

數(shù)字定時器(0-9.9s)

數(shù)字電壓設(shè)置(0.1 to 6.0V)

真空系統(tǒng)
真空泵2級直連式高速真空泵
抽氣速率133L/MIN
噪音56dB
極限真空≤1 x 10-3 Torr


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