HPR-30過程氣體分析儀（Process Gas Analyser），適用于監測分析殘余氣體和真空過程。可檢測反應室內存在的所有成分，以及系統析出的新組分。

HPR-30過程氣體分析儀應用：

· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空涂覆/ 等離子蝕刻
· 濺射沉積
· 污染物研究
· 基本壓力辨別
· 泄漏探測/ 實質上的泄漏/脫附分析
· 除氣/烘烤/泵效能
· 反應室/過程氣體污染物

HPR-30過程氣體分析儀特點：

· 簡潔的桌上型，移動推車或控制臺架結構
· Direct re-entrant流孔板，差式泵，以達到z適宜的靈敏度
· 連續取樣從1mbar至 10-4mbar.
· 高靈敏度（至5ppb），質量數至1000amu
· 軟離子化技術，分析復雜有機物，或表觀MS研究
· 穩定性好(24h之上，峰高變化小于±0.5%)
· MASsoft軟件控制，或由局域網進行多個系統控制
· 氣動閥自動控制；出現電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置
· 自動、同時數據取得、分析，實時顯示、報警。