儀器名稱:全自動離子濺射儀 型號:ETD-800
原理:二極直流濺射
儀器名稱:離子濺射儀 型號:ETD-900M
原理:磁控濺射
在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產
生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時,經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。
電壓:-1200 DCV
ETD-900M參數:
主機規格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標配)
樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸:Ф 50mm
真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: 電流:50mA
定時器: 最長時間:0-360S ?
微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體: 多種
電壓: -1600 DCV ?
機械泵:標準配置 2L/S(國產 VRD-8)
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。
特點:可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達到更細顆粒的涂層。
一鍵式操作,使用方便。
ETD-900M用途:
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。
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