NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無(wú)損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的支持的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

LSC是占地面積較小，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

LSC-5000 (AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)應(yīng)用：

• 光刻膠去除/剝離

• 硅片

• 藍(lán)寶石片

• 圓框架上的芯片

• 顯示面板

• ITO涂覆的顯示屏

• 帶保護(hù)膜的分劃版

• 掩模版空白部位

• 掩模版接觸部位

• 帶保護(hù)膜/不帶保護(hù)膜的掩模版

LSC-5000(AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)的特點(diǎn)：

• 支持450mm直徑的圓片或15”x15”方片

• 帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學(xué)試劑滴膠臂的大腔體

• 帶化學(xué)試劑滴膠的刷子轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)

• 帶LABVIEW軟件的PC全自動(dòng)控制

• 觸摸屏用戶界面

• 機(jī)械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面

• 安全互鎖及警報(bào)裝置

• 30”D x 26”W 的占地面積  

LSC-5000(AD)全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)選配項(xiàng)：

• 化學(xué)試劑傳輸模塊

• Piranha溶液清洗                                       

• 臭氧化DI水（20ppm的O3）

• 氫化的DI水

• 高壓DI水

• 熱DI水

• 溶劑和酸分離排放

• IR紅外加熱

• DI水循環(huán)機(jī)

• 耐火立柜

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