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加熱浴槽

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低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

詳細信息 在線詢價

  • 提供-40℃~105℃溫度范圍內的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。
    低溫恒溫循環器
    低溫恒溫循環器
    特別適用與化學反應釜、發酵罐、旋轉蒸發器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。
    的內循環和外循環泵系統，內循環使儀器溫度均勻恒定，外循環泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現一機多用。
  • 加熱制冷循環浴槽 RT2/RT4
    Refrigerated / Heating Bath Circulators
    -外觀緊湊，低噪音，內槽空間大
    -操作使用簡單，三鍵式便捷操作
    -同時具有加熱和制冷功能
    -PID溫度控制技術；
    -1.5KW的加熱功率，能夠快速升溫到設定值；
    -具有較強的泵功率，可以使用外循環溫控，可以設定內外循環流量比
    -全工作溫度范圍內的過溫安全保護功能
    -液位浮子提供低液位報警功能，當液位過低時，聲光報警并切斷電源防止干燒
    -待機模式及儀器自動啟動模式兩種工作模式可選
    -前置浴液排放口，方便及時更換浴液；
    -良好的內部原件布置和寬敞的散熱空間，保證控制器長期穩定運行
    -高品質不銹鋼加熱盤管，耐腐蝕，不結水垢
    -Active Cooling Control全程制冷技術，在其工作溫度范圍內，任何需要制冷的時刻，制冷系統都可以激活制冷功能
    -R134a 無氟環保型制冷劑。

  • 型 號 溫度范圍 溫度穩定性 加熱功率 制冷功率 流量/壓力泵/吸力泵 充液體積 浴槽體積
    單位 °C °C W W l/min bar bar Litros WxL/D cm
    I therm-B1 室溫+5~95±0.051500---10/0.234.515×15/15
    I therm-B3 室溫+5~95±0.051500---10/0.231218×30/15
    I therm-B5 室溫+5~95±0.051500---10/0.231836×30/15
    I therm-5M 室溫+5~100±0.051500---10/0.23512×14/15
    I therm-13M 室溫+5~100±0.051500---10/0.231318×30/15
    I therm-19M 室溫+5~100±0.051500---10/0.231936×30/15

    型號
    		RT2 RT4
    描述
    		加熱制冷循環器 加熱制冷循環器
    訂貨號
    		9VT1R02 9VT1R04
    工作溫度范圍 ℃ -20~+95 -25~+95
    溫度穩定性 ℃ ±0.05 ±0.05
    加熱功率 W 1500 1500
    泵功率 L 10 10
    流量/泵壓 mbar 230 230

    制冷功率

    20℃

    10℃
    0℃
    -10℃
    -20℃

    W         		150
    140
    110
    100
    50         		300
    280
    220
    170
    70
    容積 L 4-6 4~6
    浴槽開口WxL cm 12.5x11.5 12.5x11.5
    浴槽深度 cm 19 19
    重量 Kg 24 24
    體積 WXL/H cm 22.5x42/62 22.5x42/62


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