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日立離子研磨儀器 IM4000PLUS

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高通量的斷面研磨配備斷面研磨能力達到500µm/h*2以上的高效率離子槍

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高通量的斷面研磨

配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質材料,也可以高效地制備出斷面樣品。

*2
在加速電壓6 kV下,將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時時的深度

斷面研磨

  • 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構成的復合材料,也可以制備出平滑的斷面樣品
  • 優化加工條件,減輕損傷
  • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

斷面研磨的主要用途

  • 制備金屬以及復合材料、高分子材料等各種樣品的斷面
  • 制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面
  • 制備評價、觀察和分析所用的沉積層界面以及結晶狀態的斷面


斷面研磨加工原理圖









平面研磨(Flat Milling®

  • 均勻加工成直徑約為5mm的范圍
  • 可運用于符合其目的的廣泛領域
  • 可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品
  • 可選擇旋轉和擺動(±60度~±90度的翻轉)2種加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

  • 去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變
  • 去除樣品的表層
  • 消除FIB加工的損傷


平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖











與日立SEM的樣品結合

  • 樣品無需從樣品臺取下,就可直接在SEM上進行觀察。
  • 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的樣品分別設置截面、平面研磨桿,因此,在SEM上觀察之后,可根據需要進行再加工。


 


冷卻溫度調節功能*1


附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS

該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發的樣品的溫度上升,所導致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產生開裂的樣品,通過冷卻溫度調節功能可防止其因過度冷卻而產生開裂。

*1
此調節功能不是IM4000PLUS的標配功能,而是配有冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS功能。









樣品:鉛焊料


常溫研磨


冷卻研磨


 






項目 內容
IM4000PLUS IM4000PLUS
斷面研磨桿 平面研磨桿
使用氣體 Ar(氬)氣
加速電壓 0 ~ 6 kV
研磨速度(Si材料) 500 µm/hr*1 以上 -
樣品尺寸 20(W)× 12(D)× 7(H)mm Φ50 × 25(H) mm
離子束
間歇照射功能
標配
尺寸  616(W)× 705(D)× 312(H)mm
重量  機體48 kg+回轉泵28 kg
附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS
冷卻溫度調節功能 通過液氮間接冷卻樣品、溫度設定范圍:0°C ~ -100°C
選項
空氣隔離
樣品夾持器
僅支持斷面研磨夾持器 -
FP版斷面研磨夾持器 100 µm/rotate*2 -
用于加工監控的顯微鏡 倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD)


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