新一代高性能OES光譜儀-全面金屬分析控制
關鍵詞:金屬 金屬加工廠中的來料
概述:新型OE750直讀光譜儀具有超高的分析性能水平。它涵蓋金屬元素的所有光譜,并具備一些低檢出限。因此,此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可*為許多金屬加工企業提供優質分析。
中國,2019年12月5日:日立分析儀器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是一家日立高新技術公司(TSE:8036)旗下的一家全資子公司,主要從事分析和測量儀器的制造和銷售,其已推出一款開創性的OE750型新型直讀光譜儀,用于驗證金屬加工廠中的來料規格分析。
由于供應鏈變得復雜,*質量策略和要求更高的規格和標準層出不窮,因此金屬加工業面臨著越來越大的壓力,他們需要在投入生產前檢查來料是否違反牌號信息,檢查雜質和痕量元素的含量。為了滿足這些新的QAQC高要求,新型OE750直讀光譜儀具有超高的分析性能水平。它涵蓋金屬元素的所有光譜,并具備一些低檢出限。因此,此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平,可*為許多金屬加工企業提供優質分析。
OE750實現高分辨率和寬動態范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術的革命性新光學理念。因此,這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍;這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規格分析至關重要,該分析儀可滿足相關標準和規格的要求,例如ASTM E415標準中關于碳鋼和低合金鋼的試驗方法和ASTM E1086標準中關于用火花原子發射光譜法分析不銹鋼的標準試驗方法。
OE750的新光學系統設計的一個優點是啟動時間短。由于光學系統體積小,不到一小時的時間便可啟用儀器??稍谛枰獧z查100%來料的情況下,助力實現高批量生產。
除了新的光學設計之外,OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺,具有優化層流設計,可降低氬氣消耗,降低污染的可能性,并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%,并避免油氣污染,從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。
除創新性硬件技術外,新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如,它包括日立牌號數據庫,該數據庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準,減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。作為選擇方案,它配有SPC/LIMS包,能夠輕松有效監控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標準要求的理想工具。
日立OES產品業務開發經理Wilhelm Sanders表示:“在過去,金屬加工企業在購買儀器時,不得不在高分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇?,F在有了新型OE750,他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”