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橢偏儀的發(fā)展展望

2019年06月06日 14:35

　　【儀器網產品文庫】橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量儀器。

　　橢偏儀發(fā)展展望

　　橢偏測量具有非接觸性、非破壞性、測量精度高和適于測量較薄膜層的特點，成為了半導體工業(yè)常用的薄膜測量工具。由于半導體制造業(yè)在器件關鍵尺寸上的測量要求越來越，薄膜常用材料日益多樣化，薄膜的結構越來越復雜，需要進一步改進橢偏儀。目前橢偏儀的主要發(fā)展趨勢包括:

　　1、尋找較高強度的紅外光源，拓寬橢偏儀的光譜范圍，以準確確定異質結構的多層膜結構;

　　2、建立包含成像橢偏儀的校準因素的系統模型，以減小成像橢偏儀的測量誤差;

　　3、對半導體工業(yè)常用薄膜材料建立準確的物理模型，以減小系統的計算誤差;

　　4、引入能夠同步進行數據獲取和數據處理的控制系統，并利用優(yōu)化算法，較快得出薄膜系統待求參量，以提高橢偏儀的測量速度，增強橢偏儀的在線檢測和控制功能。

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