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簡介：THEIA是一款高性能，穩(wěn)定，靈活，可靠且安全的研發(fā)型原子層沉積系統(tǒng)，兼具工業(yè)生產(chǎn)解決方案的優(yōu)勢。THEIA超快平面原子層沉積系統(tǒng)可進行升級改造，從而滿足科學研究的各種需求，并實現(xiàn)從“研發(fā)”到“生...

簡介：PANDORA是高度集成的臺式原子層沉積系統(tǒng)，可擺放在實驗室的任意角落，采用旋轉(zhuǎn)式反應腔實現(xiàn)對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應臺，實現(xiàn)樣品的切換。PANDORA多...

簡介：P系列粉末原子層沉積系統(tǒng)是ForgeNano針對工業(yè)包覆研發(fā)的粉末ALD負載系統(tǒng)，可實現(xiàn)kg級粉末批量包覆，是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

簡介：SAL3000原子層沉積系統(tǒng)是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進一步通過改變鍍...

簡介：SAL-3000PlusALD原子層沉積系統(tǒng)是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統(tǒng)，可通過連接STR2000轉(zhuǎn)移單元，與退火設(shè)備SAN2000Plus，鍍膜設(shè)備，SVE2000Plus蒸鍍設(shè)備SSP...

簡介：SAL1000系列桌面型ALD原子層沉積系統(tǒng)是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設(shè)備，可搭載2路前驅(qū)體。適用于4英寸（φ100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

簡介：臺式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“...

簡介：該PECVD等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜等。可選用射頻（RF）、空陰*密度等離子體（HCD）源、感應耦合等離子體（I...

簡介：我們提供了一套完整的金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)（MOCVD），主要產(chǎn)品包括臺式研發(fā)型、中試型和生產(chǎn)型。其反應器的設(shè)計可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計以滿足客...

簡介：原子層沉積系統(tǒng)生長的金屬氧化物薄膜可用于柵極電介質(zhì)、電致發(fā)光顯示器絕緣體、電容器電介質(zhì)和MEMS器件，生長的金屬氮化物薄膜適合于擴散勢壘。