高真空退火爐可實現，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空， 高出純度氣體中加熱。

儀器介紹：

   華測儀器通過多年研究開發了一種可實現，高反射率的拋物

面與高質量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好

的溫度分布。可實現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保

護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空， 高出純度氣體中加熱。設備

可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐，是目前理想的一

種高真空退火爐。

   它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火

爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中

也可改寫設定溫度值。從各方面講，都能節省時間并提高實驗速度。

同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐

一樣安裝簡單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，

實現全新的溫度控制操作！

儀器原理：

   原理為加熱絲或桂碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低.

下，也無法實現溫度的測量，加熱區域也存在不均勻的現象。

高真空退火爐的反射鏡是具有曲率，采用5軸加工系統加

工，以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是

拋物線型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

設備優勢：

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配

置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。

溫度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫

度(遠比普通加溫方式）此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高

精度。

不同環境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫（高純度惰性氣體靜態或流

動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

設備結構：

1、反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時，配套的快速反應的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫

度控制器。高性能設計，響應速度快。

2、可選配置：

（1）進口干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）進口全量程真空規：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10-7Pa到

1atm;

（3）為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發技術

保證試驗溫度；

（4）根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡單輸入溫度程序

設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；

（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、

U、W型；

（6）大可設定32個程序、256個步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內置了 SCR電路，所以范圍很廣。

3、其他配置：

儀器試樣試驗：

更多應用：

樣品腔內徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm

1、電子材料

半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

3、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000°c以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環試驗爐

4、復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環試驗爐

5、其他

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐