捷歐路JEOL BS/JEBG/EBG系列 電子槍用于光學薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。

電子束蒸鍍法的特征：用電子束直接照射鍍膜材料進行加熱，因此熱效率高，能蒸發高熔點金屬、氧化物、化合物、升華性物質等各種材料。鍍膜材料在水冷銅坩堝內被直接加熱，因此不會象電阻加熱式或感應加熱式那樣與坩堝發生反應。可能需要使用坩堝內襯。能迅速控制輸出，因而能精確地控制膜厚。與濺射法及CVD法相比，能快速鍍膜是一大特征。對形成1µm 以上的厚膜也很有效。

日本電子制造的電子槍/電源的特征如下

氧化物：電子束垂直照射鍍膜材料，束斑近似圓形，具有能量密度高的特征。此外，由于標準配備了快速掃描功能，非常適合蒸鍍融點高、熱傳導性低的氧化物及升華性材料，能獲得良好的熔痕，大面積的鍍膜區域上膜厚分布均勻，重現性好。

金屬：坩堝的選擇范圍很大，能進行多種、大量、高速率的蒸鍍，還有用來抑制成膜時溫度上升的剝離工藝用電子槍。

合金復合膜：往臨近的兩個或三個坩堝內充填不同的材料，使用專用的掃描控制器進行雙源或三源蒸發，可以形成合金膜和復合膜。

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