TEM Mill 作為采用技術制造的精密離子研 磨及拋光系統，提供可靠、高性能的樣品制備 能力，能夠為透射電鏡制備滿足電子束穿透的 大面積薄區樣品，同時具備緊湊、精確以及高 穩定性的優點。
離子減薄技術通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動量轉移的方式進行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對樣品進 行減薄，最終實現樣品能夠達到透 射電鏡所需的電子束穿透厚度。
同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復)
超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下，離子束束斑均保持最細束斑狀態
每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測
采用可調節10英寸觸屏控制系統，人機界面友好，操作簡潔
自動獨立氣源控制
減薄角度范圍：-15°到 +10°連續可調
樣品載臺X-Y可調，可根據需要調整樣品減薄位置
具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能
樣品可360°連續旋轉或搖擺，離子束自動避讓樣 品夾
可通過時間、溫度以及透光性自動停止
可選液氮冷臺配置，去除熱效應對樣品的損傷
可選真空或惰性氣體轉移裝置，隔絕樣品與水氧接觸
| Model 1051 TEM Mill 技術規格 | |
離子源 | 兩支TrueFocus電磁聚焦離子源 可變能量范圍100 eV到10 keV ，束流 密度可達10 mA/cm2 減薄角度 ?15° 到 +10?連續可調 可選擇單槍或雙槍工作模式 兩支離子槍能量可獨立調節 可選手動或自動馬達離子槍 離子束角度、束斑大小均可調節 |
| 樣品夾 | 的裝樣設計及導熱性能 裝載設計，能夠滿足至零度單面/雙面 減薄均無陰影 可選帶X-Y調節裝樣樣品夾 |
| 樣品臺 | 樣品尺寸: 3 mm 直徑 x 250 µm厚度 360? 旋轉且轉速可調，同時樣品臺可搖擺 磁編碼器提供定位精度 |
| 液氮冷臺 | 可選液氮冷臺設計，冷卻時間分為3-5小時 和18小時以上兩種 -170℃~室溫，具備自動程序化控溫設計 |
| 自動終止 | 可根據時間、溫度或透光性自動終止減薄 |
| 真空系統 | 80L/s分子泵加多級無油隔膜泵 配有寬量程真空規 |
| 真空轉移 | 可選真空轉移或惰性氣體保護下轉移升級 |
| 氣源 | 99.999%高純氬氣，使用壓力 15 psi 配備精確氣體質量流量計 |
| 人機界面 | 10英寸觸屏設計，可實現配方編程控制 可選遠程燈光指示器 |
| 電源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
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