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Plasma 2000 全譜電感耦合等離子體光譜儀

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電感耦合等離子體原子發射光譜(ICP-AES)技術由于其存在檢出限低、測量的動態范圍寬、準確度好、基體效應小、精密度高等一系列優點,是近年來發展迅速、應用極為廣泛的一種光譜測試技術,Plasma2000具有波長范圍寬、分辨率高、測試速度快、穩定性好等特點,可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業、食品、商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。

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電感耦合等離子體原子發射光譜(ICP-AES)技術由于其存在檢出限低、測量的動態范圍寬、準確度好、基體效應小、精密度高等一系列優點,是近年來發展迅速、應用極為廣泛的一種光譜測試技術,Plasma2000具有波長范圍寬、分辨率高、測試速度快、穩定性好等特點,可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業、食品、商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。


儀器特點:

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩健的檢測能力。
高效穩定的自激式固態射頻發生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優異的長期穩定性。
高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。


儀器參數:

技術參數:
射頻發生器技術參數:   
輸出功率:700W-1600W連續1W可調
功率穩定性:≤0.1%
震蕩頻率:27.12MHz
頻率穩定性:≤0.01%
匹配方式:自動匹配
電磁場泄露輻射強度:<0.5V/m

進樣系統技術參數:
炬管方向:垂直放置
炬管線圈:3匝
炬管:一體式炬管,中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)。
霧化器:同心霧化器或平行通道霧化器,外徑6mm,可選標準霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器.
霧室:旋流霧化室,可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動泵:4通道12滾輪,轉速連續可調。
氬氣消耗量:12L/min~18L/min
冷卻氣:0.00L/min~20.00L/min,精度0.01L/min,高精度質量流量控制器
輔助氣:0.00L/min~2.00L/min,精度0.01L/min,高精度質量流量控制器
載氣:0.00L/min~2.00L/min,精度0.01L/min,高精度質量流量控制器

光學系統參數:
光柵:中階梯光柵,52.67g/mm,閃耀角63.5°
棱鏡:超純SiO2材料
分析譜線范圍:165nm-900nm
焦距:400mm
分辨率: ≤0.008nm@200nm
雜散光:10000μg/ml的Ca溶液在As189.042nm處的等效背景濃度<2ug/ml
光室恒溫:高精度恒溫38℃±0.1℃
光室充氣:多點充氣技術,小流量吹掃1L/min,大流量吹掃4L/min

檢測器技術參數:
檢測器:背照式CCD檢測器,抗飽和溢出
像面尺寸:25.4mm x 25.4mm
CCD像素:1024x 1024
單像素面積:24μm x 24μm
波長響應范圍:120nm~1100nm
量子化效率:無鍍膜,量子化效率可達75%以上
檢測器冷卻:高效半導體制冷,制冷溫度<-35℃

分析性能:
觀測方式:垂直火炬   
檢出限:亞ppb-ppb
短期穩定性:RSD≤0.5%(500LOD)
長期穩定性:RSD≤1.0%(2h,500LOD


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