1.產品名稱及型號：X射線金屬成份分析光譜儀X－1200系列2.制造商：深圳市啟誠儀器設備有限公司3.產品圖片：4.工作條件n工作溫度：15-30℃n相對濕度：≤80%n電源：AC:220V±5Vn功率：300W+550W5.技術性能及指標:n元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)

1. 產品名稱及型號： X射線金屬成份分析光譜儀X－1200系列

2. 制造商：深圳市啟誠儀器設備有限公司

3. 產品圖片：

4. 工作條件

n 工作溫度：15-30℃

n 相對濕度：≤80%

n 電    源：AC: 220V ±5V  

n 功    率：300W + 550W  

5. 技術性能及指標:

n 元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)；

n 元素含量分析范圍為1ppm到99%；

n 測量時間：40-120秒；

n 主含量多次測量重復性可達0.1％；

n 多準直器自動交換，滿足更多分析要求；

n 探測器能量分辨率為125±5eV；

n 溫度適應范圍為15℃~30℃；

n 電源：交流220V±5V（建議配置交流凈化穩壓電源。）；

n 多變量非線性去卷積曲線擬合；

n 高斯平滑濾波校正；

n 高性能FP軟件、MLSQ分析；

n  一次可同時分析25個元素；

n 直接檢測，不需要前處理，數據實時顯示；操作簡單方便；

三、產品配置、功能、分析精度及穩定性

（一）產品配置：

1.硬件：主機壹臺，含下列主要部件：

(1) X光管；

(2) 電制冷半導體探測器（SDD）；

(3) 高壓電源；

(4) 準直器（多準直器自動更換）；

(5) 控制系統；

(6) 濾光片；

(7) 樣品臺；

(8) 樣品腔 195mm*195mm×50mm ；

(9) 儀器尺寸 590*400*370mm

(10）真空泵/SMC真空電磁閥/真空壓力表等

2. 軟件：啟誠X熒光光譜儀成份分析軟件V6.0

3. 計算機一臺：品牌：聯想

注：如需選配打印機和穩壓電源，價格需另計。

（二）功能、分析精度及穩定性(以銅合金為例)：

銅合金成份分析;

同時可擴展分析鎂合金、鋁合金、鐵合金、鉛錫合金等其他合金，需要時需做必要的技術交流。

暫時不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O；

分析精度及穩定性：

1）F、Cl、Br、I的檢測（項目要求可針對產品RoHS檢測要求）這些元素的檢測限為1-3pmm對這些金屬測試分析穩定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

    A. 檢測含量大于5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

2） Cu, Zn, Fe,  Ni, Pb, Mn, Ti, W, Au, Ag, Hg,Sn等重金屬含量的檢測限達10～20ppm，對這些金屬測試分析穩定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

A. 檢測含量大于5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

3） Mg，Al,Cr,Cd, P, Br,S, Si, As等金屬成份含量的檢測限達30ppm，對這些金屬測試分析穩定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

A. 檢測含量大于5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

4）. 鋼鐵材料中除C，S外的元素分析；

5）. 可以檢測分析樣品狀態：液體，固體，粉末。

四、產品優勢及軟件說明

（一）. 產品優勢

1． 可進行氯、溴離子檢測、金屬離子分析檢測，一機多用省投資

2． 可檢測固體、液體、粉末狀態材料

3． 能檢測分析多達60多種元素，一次檢測可顯示25種元素針對銅、鐵、鋅、不銹鋼等任意基體做成分分析

4． 運行及維護成本低、無易損易耗品，對使用環境相對要求低

5． 可進行未知標樣掃描、無標樣定性，半定量分析

6． 操作簡單、易學易懂、精準無損、高品質、高性能、高穩定性，快速出檢測結果（40-120秒）

7． 可針對客戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件

8． 軟件升級

9． 眾多，媲美國外發達國家之同類設備

10．無損檢測，一次性購買標樣可使用

11．使用安心無憂，售后服務響應時間24H以內，提供保姆式服務

（二）軟件說明

1．儀器工作原理說明

l XRF就是X射線熒光光譜分析儀(X Ray Fluorescence Spectrometer) 。 人們通常把X射線照射在物質上而產生的次級X射線叫X射線熒光 ，而把用來照射的X射線叫原級X射線。

l 當能量高于原子內層電子結合能的高能X射線與原子發生碰撞時，驅逐一個內層電子而出現一個空穴，使整個原子體系處于不穩定的激發態，激發態原子壽命約為10-12~10-14S，然后自發地由能量高的狀態躍遷到能量低的狀態。

l 當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不在原子內被吸收，而是以輻射形式放出，便產生X射線熒光(特征X射線)，其能量等于兩能級之間的能量差。 

l 特征X射線熒光產生：  碰撞→躍遷↑(高) →空穴→躍遷↓(低)

l 不同元素發出的特征X射線熒光能量和波長各不相同，因此通過對其的能量或者波長的測量即可知道它是何種元素發出的，進行元素的定性分析。線強度跟這元素在樣品中的含量有關，因此測出它的強度就能進行元素的定量分析。

l 通過實驗驗證，在一定范圍內，鍍層越厚，測試的X熒光的強度越大；但當鍍層厚度達到一定值時，測試的X熒光的強度將不再變化。換而言之，就是鍍層厚度測試是有限的，過厚的鍍層樣品將被視為無限厚。

l 由于X射線具有穿透性，多鍍層分析時，每一層的特征X射線在出射過程中，都會互相產生干擾。隨著鍍層層數的增加，越靠近內層的鍍層的檢測誤差越大；同時外層鍍層由于受到內層鍍層的影響，測試精度也將大大下降。為解決多鍍層的影響，在實際應用中，多采用實際相近的鍍層樣品進行比較測量（即采用標準曲線法進行對比測試的方法）來減少各層之間干擾所引起的測試精度問題。

2. 軟件工作架構圖

X－1200型號光譜儀采用了目前國際上的軟件算法，基本參數法（FP），在多種類合金分析中，適應性更廣。啟誠公司經過近10年的開發和完善，使軟件已經具備了完善的使用內容外，還具備強大的教學和科研開發功能。

下面是關于光譜儀和軟件的簡單介紹：

X-1200型號光譜儀軟件算法的主要處理方法

1) Smoothing譜線光滑處理

2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除

3) Sum Peak Removal  疊加峰去除

4) Background Removal  背景勾出

5) Blank Removal  空峰位去除

6) Intensity Extraction  強度提取

7) Peak Integration  圖譜整合

8) Peak Overlap Factor Method  波峰疊加因素方法

9) Gaussian Deconvolution  高斯反卷積處理

10) Reference Deconvolution  基準反卷積處理

軟件開發的過程中我們參考了如下文獻（FP References）

(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis,” 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).

(b) “Principles of Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).

(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry: Methods and Techniques,” eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).

(d)“An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).

(e)“Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).

(f)“Quantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).

(g)“An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV),” H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(h)“Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(i)“Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra,” B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).

(j)“Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines,” T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).

(k)“Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells,” M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).

(l)X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).

(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients,” Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).

(n)"Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).

(o)“The Electron Microprobe,” eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).

(p)“Compilation of X-Ray Cross Sections,” UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).

(q)“X-ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92,” B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).

(r)“Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels,” J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).

(s)“Fluorescence Yields, ?k (12 ≤ Z ≤ 42) and ?l3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM),” W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).

(t)“Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for Quantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV),” C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).

(u)“Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples,” D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).

(v)“Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays,” T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).

(w)“X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films,” M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).

(x)“General Approach for Quantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters,” F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).

(y)“Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films,” Thin Solid Films 157, 283 (1988).

(z)“Fundamental-Parameter Method for Quantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources,” presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).

3．軟件界面

1）圖譜界面

圖譜界面可以任意調整大小，便于在研發過程中盲樣分析時對各種元素的尋找。

參數設定界面

包含了盡量多的參數設定窗口，可以方便使用人員，尤其是研發人員對軟件和分析結果狀態的了解。