條紋反射測量是一種高靈敏，非相干的光學全場測量技術。主要用于對任何材質的光潔表面進行高精度的曲率和三維坐標的測量。

該系統結構簡單，它主要由一個TFT顯示器和一個高分辨率的CCD照相機組成。系統還配備了兩只激光二極管，以方便用戶對被測物進行初始定位。測量時TFT上顯示由計算機生成的條紋模式，CCD照相機獲取經被測物表面反射回的條紋圖像。由于物體表面形狀的調制作用，CCD上得到的將是一幀變形的條紋圖。采用的條紋相移技術，通過信號解調將直接得到被測物體表面的法線和梯度分布。在此基礎上進行進一步的微分和積分操作后，就可得到物體的曲率和三維坐標的分布。由于物體到TFT的較大距離，使得表面法線的變化對反射光線的偏移量有顯著的放大作用，以至系統在物體高度方向的坐標分辨率可達納米量級。

圖通的非相干光學測量技術，如條紋投影等，對于光滑表面無能為力。天文反射系統則充分利用了被測物體對光的反射作用，不僅是光滑表面的測量成為可能，而且將測量精度提高到相干光學測量的水平。同相干測量相比，該系統得益于VEW公司開發的照相機和系統校準技術，可獲得物體精確的曲率和三維坐標的分布，而且受周圍環境的影響很小可以實現在線測量。同其他超高精度接觸式三坐標測量儀相比，該系統更是速度快，數據量大的優點，可以在幾秒鐘內獲得上百萬個數據點。系統的各系列型號適用于尺寸，曲率分布，反光率等各不相同的表面，甚至是液體，同時可根據用戶需求專門設計。該系統已成功應用鏡片加工設備的質量檢測（Satisloh公司），精密加工工件表面形狀測量（不萊梅大學精密制造實驗室），大型太陽能聚光鏡面形測量等領域。其潛在的應用還包括鍍膜，噴漆表面的質量控制，表面粗糙度分析等。

該系統的另一個重要應用是對飛機表面面形結構缺陷的測量。通過比較前后不同時間段內材料形變的變化，從而對飛機結構的安全性進行評估。

配置技術參數（所有參數根據用戶測量要求可專門設計）：

尺寸（桌面型）：500×500×790mm

坐標分辨率： 深度方向1nm     橫向：測量范圍/1392CCD像素

測量時間：1s-600s

測量范圍：110×80mm