基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)的激光束射向靶材入射角度：60°；主腔體本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.

       基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)：
 

　　大襯底尺寸
 

　　One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.
 

　　大襯底溫度：300°C typical, but other heaters are available.
 

　　MAPLE靶材溫度： -194°C (80 K)
 

　　壓力操作范圍：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressure
 

　　MAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.
 

　　靶材到襯底(Throw) 距離：Variable from 2.5 to 4 inches
 

　　光柵路徑長度：Across complete MAPLE target
 

　　基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)的激光束射向靶材入射角度：60°
 

　　主腔體本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.
 

　　真空腔體：Box style chamber with easy substrate / target changes.
 

　　激光波長：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.
 

　　科睿設(shè)備有限公司是一家專門從事材料生長、材料分析、納米科技、半導(dǎo)體測試設(shè)備銷售、服務(wù)及技術(shù)咨詢的高科技公司。我司代理了多家*水平的分析儀器和設(shè)備，產(chǎn)品包括：
 

　　*光刻機(Mask Aligner)、勻膠機(Spin Coater)、深能級瞬態(tài)譜儀(DLTS)等；
 

　　*電子束蒸發(fā)系統(tǒng)(E-Beam Evaporation)、磁控濺射系統(tǒng)、脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)、原子層沉積系統(tǒng)、快速退火爐(RTP)、等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)、反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)(RIE)；
 

　　*掃描開爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)、飛行時間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)；
 

　　*氣溶膠發(fā)生器、氣溶膠粒徑譜儀、氣溶膠稀釋器、濾料測試系統(tǒng)、煙霧發(fā)生器、空氣示蹤器等。
 

　　科睿設(shè)備有限公司扎扎實實的將代理的產(chǎn)品真誠的奉獻給中國的科研工作者，我們以能為廣大中國科研工作者提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)為榮。而為客戶提供整體的解決方案，是科睿技術(shù)發(fā)展有限公司一貫堅持的宗旨。
 

　　這個宗旨象征*、品質(zhì)與客戶服務(wù)同步，我們保證全面提升服務(wù)品質(zhì)以伴隨您的闊步發(fā)展。
 

　　在新的發(fā)展時期，科睿技術(shù)發(fā)展有限公司將秉持企業(yè)文化：『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』，繼續(xù)提供給廣大的中國用戶以*的科學(xué)技術(shù)、優(yōu)質(zhì)的儀器和設(shè)備、以人為本完美的產(chǎn)品服務(wù)。
 

　　科睿技術(shù)發(fā)展有限公司總部設(shè)在香港，在上海/北京/廣州/成都等城市設(shè)立了辦事處或維修點，我們有強大的技術(shù)和維修隊伍為客戶提供高水平的產(chǎn)品和服務(wù)。