MILA-5000系列
MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進(jìn)行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐，可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱。可通過(guò)USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。

MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高溫型）基礎(chǔ)上升級(jí)的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點(diǎn)：快速升降溫，潔凈加熱，可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過(guò)USB連接PC進(jìn)行溫度監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。

應(yīng)用

MILA-5000系列

• 鐵電薄膜的晶體退火。
• 離子注入后的擴(kuò)散退火，氧化膜沉積退火。
• 硅和復(fù)合晶片的燒結(jié)，合金化處理。
• 玻璃基板溫度均勻退火。
• 熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測(cè)試。
• 程序升溫解吸測(cè)試，催化效果測(cè)試。

MILA-5000UHV

• 在超高真空中進(jìn)行熱處理。
• 程序升溫解吸氣體分析爐。

特點(diǎn)

MILA-5000系列

• 1. 50℃/S的快速升溫.
• 2. 可在真空，惰性氣體，流動(dòng)氣氛，空氣的氣氛下進(jìn)行加熱
• 3. 精確的溫度控制
• 4. 緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
• 5. 通過(guò)USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
• 加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)

MILA-5000UHV

• 可進(jìn)行超高真空的熱處理
• 搭配分子泵，真空度可達(dá)到10^-5Pa
• 繼承了MILA-5000-P-N的全部特點(diǎn)
• 緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
• 通過(guò)USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
• 加熱過(guò)程中可通過(guò)電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)

參數(shù)

MILA-5000系列

* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。

高真空型

* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。

オプション例

高溫型

MILA-5000-P-N 升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 4kW, 100%output is not

MILA-5000-P-N 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
測(cè)溫方式：K型熱電偶

Uniform heating type

MILA5000-P-F升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 1kW, 100%output is not necessay

MILA-5000-P-F 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：N₂流動(dòng)氣氛
測(cè)溫方式：K型熱電偶 

MILA5000-P-N型昇溫速度
サンプル : 　W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力

MILA5000-P-N型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測(cè)定點(diǎn)

均熱型

MILA5000-P-F型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力

MILA5000-P-F型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜）　Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測(cè)定

CCDカメラユニットによるAuの溶融観察