該系統搭配了紅外金面爐，樣品支架以及用于氣氛控制的石英腔。
應用
- 半導體化合物合金化
- Si，半導體化合物的快速退火
- 陶瓷基底薄膜材料的烘焙
- 玻璃陶瓷基底的退火
特點
- 流動氣氛與真空石英腔可選（標配流動氣氛）
- 可選配同時兼具流動氣氛與真空功能的石英腔
- 通過USB連接，可將溫控程序輸入到電腦
- 加熱期間可以通過電腦監測溫度數據
參數
| 型號 | SSA-E45P | SSA-E410P | SSA-P610CP |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | 聚焦光圓柱加熱 | 聚焦光圓柱加熱 | 平行光圓柱加熱 |
| Temperature Range | RT ～ 1400 °C | RT ～ 1200 °C | |
| 控溫范圍 | φ15 × L50 (mm) | φ15 × L100 (mm) | φ50 × L100 (mm) |
| 均熱區 | φ10 × L40 (mm) | φ10 × L80 (mm) | φ40 × L80 (mm) |
| 加熱腔 | 石英腔(φ30 mm)-流動氣氛型 | 石英腔(φ98 mm)流動氣氛 | |
| 樣品支架 | 石英支架 | 石英支架 | 2英寸石英支架 |
| 熱電偶 | R型熱電偶 | ||
| 溫控器 | TPC5000-32-1 | TPC5000-62-1 | |
* 加熱溫度or升溫速率 根據被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
