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X熒光光譜測厚儀 XTU-4C

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產品類型:能量色散X熒光光譜分析儀產品名稱:鍍層測厚儀產品型號:XTU-4C產品優勢:XTU-4C是一款設計結構緊湊,模塊精密化程度的鍍層測厚儀,C型開槽設計樣品腔,讓其滿足了既可測量超微小樣品的檢測,同時還可滿足超過樣品腔尺寸的大工件測量

詳細信息 在線詢價

產品類型:能量色散X熒光光譜分析儀

產品名稱:鍍層測厚儀

產品型號:XTU-4C

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產品優勢:

XTU-4C是一款設計結構緊湊,模塊精密化程度的鍍層測厚儀,C型開槽設計樣品腔,讓其滿足了既可測量超微小樣品的檢測,同時還可滿足超過樣品腔尺寸的大工件測量。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

 

1)搭載微聚焦加強型X射線發生器和的光路轉換聚焦系統,最小測量面積達0.002mm2

2)擁有無損變焦檢測技術,手動變焦功能,可對各種異形凹槽件進行無損檢測,凹槽深度范圍0-30mm

3)核心EFP算法,可對多層多元素,包括同種元素在不同層都可快、準、穩的做出數據分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB,精準檢測層Ni和第三層Ni的厚度)

4)配備高精密微型移動滑軌,可實現多點位、多樣品的精準位移和同時檢測

5)裝配高效率正比接收器,即便測量0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也可達到穩定性

6)可同時分析23個鍍層,24種元素,測量元素范圍:氯Cl(17)- 鈾U(92),涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)- 鈾U(92),涂鍍層檢出限:0.005μm

7)人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

8)標配4準直器自由切換,最小測量面積可達0.002mm2

9)配有微光聚集技術,最近測距光斑擴散度小于10%


儀器配置:

1. 微聚焦加強型X射線管:高穩定性X射線發生器

        —鈹窗口,油絕緣,氣冷式,輻射安全電子管屏蔽

        —50kV,1mA,高壓和管流設定為應用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射線標準,如有特殊要求,也可協商定制

2. 接收器:高效率正比計數管

        —窗口面積≥150mm2

3. 光路轉換器

        —φ0.5mm,φ0.2mm,φ0.1mm,φ0.05mm四準直器自由切換

4. 定制專享高敏感鏡頭

        —1/2.7”彩冊CCD高敏感可變焦鏡頭,全局快門,有效像素:1280*960,光學38-46X,數字放大40-200倍  

5. 恒壓恒流快門式光閘

    —擁有高壓電源緊急自鎖功能,帶給您更安全的防護

6. 移動平臺

        —手動高精密XY移動滑軌,移動范圍50mm*50mm,精度0.01mm

7. 全新一代高壓電源

—性能穩定可靠,高達50W的功率實現更高的測試效率

8. 對流通風式過濾風冷

—的散熱系統配備,儀器即便全天候開啟,都可保持恒溫恒效

9. 隨附標準片

        —免費提供十二元素片、五選二標準片( Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um)、其他規格(選配)

10. 其他配置

        —電腦一套、打印機、附件箱、電鍍液測量杯(選配)

 


技術參數:

1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

2. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

3. 厚度檢出限:0.005μm

4. 成分檢出限:1ppm

5. 最小測量直徑0.05mm(最小測量面積0.002mm2)

6. 對焦距離:0-30mm

7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量:45KG

10. XY軸工作臺移動范圍:50mm*50mm

11. XY軸工作臺承重:5KG

12. 多元迭代EFP核心算法(號:2017SR567637)

專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法,結合的光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統,只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復鍍層應用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

 

儀器參數:

 

XTU-4C

測量元素范圍

Cl(17)- U(92)

涂鍍層分析范圍

Li(3)- U(92)

EFP算法

標配

分析軟件

同時分析23個鍍層,24種元素

不同層相同

元素檢測能力

標配

軟件操作

人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

X射線裝置

微聚焦加強型射線管

準直器

Φ0.05mm;

Φ0.1mm;

Φ0.2mm;

Φ0.5mm;

四準直器自由切換

微光聚焦技術

最近測距光斑擴散度 10%

測量距離

具有距離補償功能,可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達0-30mm

樣品觀測

1/2.7”彩色CCD,變焦功能

對焦方式

高敏感鏡頭,手動對焦

放大倍數

光學38-46X,數字放大40-200倍

樣品臺尺寸

500mm*360mm

樣品臺移動

高精密XY滑軌

可移動范圍

50mm*50mm

儀器重量

45KG

其他附件

電腦一套、打印機、附件箱、十二元素片、電鍍液測量杯(選配)、標準片(選配)

X射線標準

DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568

               



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