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產品概述∶?GSL-1100X-IⅢI-D11是一款三溫區的大型雙管爐，其最高溫度可以達到1100℃。特殊的雙管設計，是為了通過CVD方法在箔材上大面積生長材料...

產品概述∶?OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可在爐管內移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm，設備最高工作溫度為1200℃C。...

產品概述∶?OTF-1200X-4-80-100-4CLV-SL雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是在新—代能源研究中，應用...

產品概述∶?TCVD-OTF-1200X-S2-5OSL是一款小型的雙爐體滑動管式爐，爐管為中50×1600mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器最...

三溫區三通道混氣CVD系統是一款CE認證的三溫區管式爐CVD系統，其管徑為80mm，采用機械泵，它是由管式爐，三路浮子流量供氣系統組成，其真空度可達到10-2t...

MSK-SFM-9-5L 雙行星真空攪拌機應用范圍 ：MSK-SFM-9-5L型雙行星四槳真空攪拌機是集真空低速混合、高速分散為一體的高效攪拌設備，可應用于各種...

KJ-6300再循環冷水機組的開式水箱和閉環系統可提供—種清潔可靠的溫控流體來源，速度頂值可達 116L/min（30G/min）。 省去了規模建設，排污成本和...

SAT（La，Sr）（Al，Ta） O3 是一種新的無孿晶鈣鈦礦晶體。 LSAT與高溫超導體及多種氧化物材料有完好的匹配。LSAT的熔點低，用提拉法生長，成本比...

NdGaO3單晶基片是近十年中發展起來的新型基片，主要用作高溫超導體（如YBCO）及磁性材料的外延薄膜生長用基片。由于NdGaO3與YBCO的晶格失配很?。▇0...

雙爐體滑動PECVD系統&循環手套是一款雙爐體滑動的PECVD系統，并目連接有循環手套箱。此款設備中石英爐管與一循環手套箱相連接，允許客戶用CVD方法把樣品制作...

小型滑動PECVD管式爐系統是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced ChemicalVapor Deposition）（等離子體化學氣相沉積）滑...

1000°C小型RTP爐 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“石英管和真空法蘭，它是專為半導體和太陽能電池基片（頂值為3“）的退火而設計，采用10K...

迷你型快速加熱冷卻爐是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x1000mm石英管，工作溫度達1200℃。爐底安裝一對滑軌，可滑動。加熱和冷卻速率可達100℃/...

OT-1200X-IR-ISL是一款雙溫區紅外加熱快速熱處理爐，其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，允許樣品在真空或氣氛保護環境下移動。此款設備...

5英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimati...

高速三維擺震球磨機能用于干、濕兩種方法球磨或混合粒度不同、材料各異的各類固體、懸浮液和漿料，高速振動球磨機有一個偏心擺軸，在馬達的高速運轉時，罐體產生偏心擺動;...

三溫區1500°C PECVD系統是一款三溫區1500℃的PECVD管式爐系統，它是由500W的射頻電源，1500℃三溫區管式爐、多通道質子混氣系統和...

4路質子混氣管式PECVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD），內...

OTF-1200X-50-I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐，預熱爐（作用...

便攜式恒溫干燥箱/培養箱（車載/室內）產品特點1、立式風格 流線造型體積小重量輕上蓋設有提手方便攜帶。2、優質鏡面不銹鋼工作室3、環保型保溫材料4、防爆加熱管加...